时间: 2024-06-20 05:49:37 | 作者: 纺机配套电控设备
2020年4月，新冠病毒导致工厂多家巨子工厂全面停产，引发了芯片资料商场一片惊惧。由于半导体芯片制作的简直每一个环节，不能脱离日本的企业。
而在全球半导体制作中，光掩模（亦称光罩）这款重量级的产品就为两家印刷公司所独占。现在，全球前五大出产光罩的公司分别是凸版印刷株式会社（TOPAN）、大日本印刷、HOYA、SK电子和Photronic ，其间前四家是日本公司，最终一家是美国公司。
2018年，全球半导体制作资料商场规划为322亿美元，其间光罩的商场规划大约45亿美元，占制作资料的14%，规划仅次于硅片。所以咱们有必要来了解一下日本凸版印刷是怎样切入到半导体赛道的。
日本凸版印刷 Toppan 成立于 1900 年，是一家百年企业，以印刷技能发家，在 1961 年跨入光掩模解决方案商场，敞开半导体工业的布局。
在2005年，凸版印刷以6.5亿美元收买杜邦光掩模公司（DuPont Photomasks），杜邦光掩模是全球三大光罩公司之一，并购完结之后，凸版印刷成为全世界光罩有突出贡献的公司。之后，凸版印刷不断经过并购来稳固公司在光罩范畴的龙头位置。发展到今日，凸版印刷全球光罩商场占了32%的比例。
当晶圆预备好之后，接下来便是开端制作芯片。而制作芯片流程的第一步是光刻，也便是把电路图印到晶圆上，怎样印？
首先要预备掩膜版，也便是光罩。依据事前设计好的电路图做成光罩，光刻机的光源经过光罩之后，就把电路图印在晶圆上，而光罩就相似底片。
光掩模的准确度和详尽度，直接攸关半导体芯片的质量，且光掩模版不象是标准化的量产晶圆，一次出产几百、几千片都是长得相同的晶圆。由于一套光掩模或许只要 30 片，但每一片的图画都不相同，每一片都是定制化的，因而，很多人会说，光掩模是半导体技能断定的重要关键。
上一年以来人工智能芯片、比特币挖矿芯片带动高端半导体工艺需求，高端光掩模已传出产能缺乏声浪，台积电本年也开端添加光掩模的本钱开销。一起，三星和台积电也同步发动委外释单的战略，主要以高端工艺为主，包含 28 纳米、16 纳米、14 纳米、10 纳米工艺技能，连续找寻独立型的光掩模供货商支撑。
英特尔、台积电、三星连续转进 10 纳米、7 纳米工艺技能，这些高端技能关于曝光率的要求大幅度的进步，要使用到二重曝光和三重曝光技能。不单是曝光时刻拉长，精准度更是提高，即便这些大厂添加机台设备，仍是缺乏以满意高端工艺关于光掩模技能需求的大幅度的添加，因而日本凸板 Toppan 也接获很多委外释单。
依据世界半导体协会 SEMI 计算，估计 2019 年将逾越 40 亿美元大关，其间日本凸板 Toppan一家就取得逾12亿美元。
2019年8月16日，格芯又宣告将旗下的光掩膜事务出售给日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks。这一操作进一步稳固了凸板印刷在全球光掩模制作的龙头老大位置。
凸板印刷的成功事例告知咱们，印刷企业绝不仅仅是一个低端劳动密集型的企业，它可彻底跻身全球工业链的最顶端。
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